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產(chǎn)品詳細(xì)頁(yè)
Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章
簡(jiǎn)要描述：Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章納米級(jí)紋理凹槽表面可變凹槽周期和凹槽深度納米光子學(xué)研究應(yīng)用的理想選擇
產(chǎn)品型號(hào)：- 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間：2024-11-08
- 訪 問(wèn) 量：460
產(chǎn)品介紹
| 品牌 | Edmund Optics | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學(xué)元件 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章
納米級(jí)紋理凹槽表面
可變凹槽周期和凹槽深度
納米光子學(xué)研究應(yīng)用的理想選擇
通用規(guī)格
涂層:
Uncoated
構(gòu)造 :
RIE Grating
基底:
Single Crystal Silicon
表面質(zhì)量:
60-40 (within CA)
厚度 (mm):
0.68 ±0.05
型號(hào)
| 產(chǎn)品編碼 | Period (nm) | 尺寸 (mm) |
| 16-855 | 855 ±42.75 | 12.50 x 12.50 |
| 16-856 | 855 ±42.75 | 25.00 x 25.00 |
| 16-857 | 139 ±6.95 | 12.50 x 12.50 |
| 16-858 | 139 ±6.95 | 25.00 x 25.00 |
詳細(xì)資料
Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章由在單晶硅基板上形成圖案的納米級(jí)紋理表面組成。通過(guò)反應(yīng)離子蝕刻，具有梯形橫截面的線性凹槽被蝕刻到基板表面，類似于傳統(tǒng)的光柵。蝕刻工藝可為這些凹槽提供不同的周期和深度規(guī)格，以及更復(fù)雜的圖案，例如晶格。II-VI LightSmyth™ 納米圖案硅印章是光學(xué)和光子學(xué)、生物學(xué)、化學(xué)、納米壓印和微流體領(lǐng)域的納米光子學(xué)研究應(yīng)用的理想選擇。
請(qǐng)注意: II-VI Incorporated 已變更為 Coherent Corp.
技術(shù)數(shù)據(jù)
